반도체 장비 자동화

반도체 애플리케이션은 완전 통제형의 청정 환경 내에서 웨이퍼 이송을 위해 고정밀도의 자동화와 안정적이고 예측 가능한 성능을 요구합니다. Brooks는 진공 및 대기압 웨이퍼 이송을 위해 독립형 컴포넌트로 또는 통합 시스템의 일부로 사용 가능한 자동 처리 솔루션을 제공합니다.

입증된 초저온 기능과 리더십을 활용하여 Brooks는 가장 까다로운 애플리케이션에까지도 예측 가능하고 파티클 없는 진공 또는 냉각 성능을 제공하는 진공 펌핑, 냉각 및 수증기 펌핑 솔루션을 제공합니다. 또한, Brooks 진공 계측 솔루션은 애플리케이션별 압력 측정, 압력 제어 및 진공 품질 측정 기능을 제공합니다.

오랜 경험과 최고의 기술 리더십, 업계 전문지식 그리고 다음과 같은 강력한 제품 포트폴리오를 바탕으로 식각, CVD, ALD, PVD, 노광, 청정도, 계측 및 검사를 위한 애플리케이션별 솔루션을 제공합니다.

Brooks has been the leading provider of automation solutions to the semiconductor market for over 20 years.  As wafer size has migrated from 100mm thru 300mm substrates, Brooks leads the transition with proven solutions and components. As the industry transitions to 450mm wafers, Brooks is once again ready to partner with customers to implement 450mm automation either as select components or as part of complete automation systems.

 

한국, 미국, 유럽, 중국, 대만, 일본, 싱가포르 소재의 지식과 경험이 풍부한 글로벌 서비스 팀이 Brooks 솔루션을 지원합니다.